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北京恒奧德儀器儀表有限公司
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恒奧德儀器智能程控勻膠機旋轉勻膠機操作步驟

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詳細介紹

恒奧德儀器智能程控勻膠機旋轉勻膠機操作步驟

 

通過高速旋轉基片,利用離心力使膠液均勻涂覆在基片表面,主要用于微電子、半導體等工藝。 ?

操作步驟

?基片固定?:通過真空吸附將基片固定在承片臺,確保旋轉時基片居中。 ?

?滴膠?:將光刻膠滴在基片中心或邊緣,滴膠量根據膠液粘度和基片尺寸調整(通常覆蓋基片直徑的50%)。 ?

?低速預旋轉?:以500/分左右的速度旋轉基片,使膠液初步鋪展。 ?

?高速旋轉?:加速至1500-6000/分,通過離心力將膠液均勻涂覆,轉速穩定性直接影響膜厚均勻性。 ?

?去除多余膠液?:通過上下刮邊技術清除基片邊緣殘留膠液。 ?

?烘烤?:按預設溫度和時間進行烘干,排除溶劑并固化涂層。 ?

關鍵參數

?轉速?:直接影響膜厚,通常轉速越高、時間越長,膜厚越薄,誤差需控制在±5nm以內。 ?

?加速度?:影響不同粘稠度膠液的鋪展效果,需根據膠液特性調整。 ?

?烘烤工藝?:溫度、時間需匹配膠液揮發速率,避免氣泡或針孔。 ?

不同型號設備可通過編程控制轉速、加速度、烘烤條件等參數,實現自動化操作